鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫：(30±0.2)℃      

3.   光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵

4.   分辨率：不大于0.007nm  

5.   刻線密度：3600g/mm          

6.   高頻發生器震蕩頻率：40.68MHz   功率穩定度：0.1%（長期25℃典型值）

7.   震蕩類型：自激式        

8.   進樣方式：蠕動泵進樣

配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）

9.   霧1化器：同心霧化1器

10. 重復性：RSD ≤1.0%

11. 穩定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公斤

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發專項”支持下研發的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產全譜ICP光譜儀革命性產品，曾斬獲中國儀器儀表行業協會“自主金獎”等一系列榮譽，在業界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業設計，原子發射icp光譜儀價格，優異穩定的測試性能源于納克近四十年ICP行業經驗。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有穩健的檢測能力。

2、 有效穩定的自激式固態射頻發生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優異的長期穩定性。

3、 高速面陣CCD采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現“全譜直讀”。

4、 功能強大的軟件系統，簡化分析方法的開發過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

可廣泛應用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點

1.   分析流程全自動化控制，實現軟件點火、氣路智能控制功能；

2.   輸出功率自動匹配調諧，功率參數程序設定；      

3.   優良的光學系統，的控制系統，保證峰位定位準確，信背比優良；

4.   較小的基體效應；      

5.   測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態線性范圍5—6個數量級；

6.   檢出限低，大多數元素的檢出限可達ppb級；

7.   良好的測量精度，穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%（5ppm），優于國家A等級標準（JJG768-2005）；

8.  

Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩定性小于0.1%；

9.   光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調，可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 精度較高的光室恒溫系統，保證儀器優良的長短期精度；

12. 多通道蠕動泵進樣，保證儀器進樣均勻，工作穩定；

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設計，操作方便，終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件，可在測定過程中，進行數據處理，方法編制和結果分析，是真正的多任務工作軟件；該軟件數據處理功能強大，提供了多種方法，如內標校正、IECS和QC監測功能等，可獲得的背景扣除點以消除干擾；對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。